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中村供應(yīng)：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M020D 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
在庫(kù)現(xiàn)貨：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M005D 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
現(xiàn)貨庫(kù)存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M001D 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
常備庫(kù)存：日本ORC 激光加工設(shè)備Exa-MS5 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
中村供貨：日本ORC半導(dǎo)體用紫外線照射裝置VUM-3500 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
中村庫(kù)存：日本ORC半導(dǎo)體用光刻設(shè)備PPS-8500 兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據(jù)配方自動(dòng)切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對(duì)波長(zhǎng)的需求。
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