日本USHIO牛尾MIKASA光刻機M-2LF

日本USHIO牛尾MIKASA光刻機M-2LF

操作方式與對準精度：屬于手動操作、接觸式對準曝光機，使用對物鏡 20× 時，對準精度 < 1.2μm，能夠較為精確地將掩模上的圖案對準到晶圓或基板上，保證圖案轉移的準確性。

基板適用范圍：有可對應 5×5mm - 100×100mm 以及 1 英寸 - 6 英寸的基板的各類機種，適用范圍較廣，

可滿足不同尺寸基板的光刻需求，無論是小型的實驗用基板還是較大尺寸的半導體晶圓，都能進行處理。

曝光波長：曝光波長為多頻率（h.i.g 線），這種多頻率的光源可以滿足不同光刻膠對曝光波長的要求，提高了光刻機對不同光刻工藝的適應性。

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