中村供貨：日本USHIO牛尾投影式光刻機(jī)UX-44101SC

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高解析度：采用專業(yè)開發(fā)的高輸出燈以及光學(xué)技術(shù)設(shè)計(jì)的投影鏡片，能夠?qū)崿F(xiàn)高效率的高解析度曝光，可滿足精細(xì)圖案的光刻需求。

大口徑投影鏡片：配備大口徑投影鏡片，大幅提高良品率，并達(dá)到高產(chǎn)能（Throughput）。

深焦點(diǎn)深度：焦點(diǎn)深度較深，厚膜光阻與變形膠卷均能適用，也可對非平面晶圓進(jìn)行適當(dāng)曝光，有助于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品良率。

自動(dòng)對焦機(jī)能：具備自動(dòng)對焦功能，可因應(yīng)膠帶伸縮等情況，達(dá)到高重疊度，保證圖案對準(zhǔn)精度。

適用多種基板和膠卷：適用于多種類型的基板，如玻璃基板、陶瓷基板、印刷電路板等，也能處理寬幅及薄型膠卷，膠卷寬度最大可達(dá) 165mm，厚度為 25μm（PI）。

高精度定位：采用TTL 非曝光波長對準(zhǔn)系統(tǒng)，通過圖像處理分別檢測并固定掩模和工件的對準(zhǔn)標(biāo)記在 xy 坐標(biāo)軸上，即使是整體涂鉻的小掩模，也能輕易識(shí)別工作記號(hào)，并且能通過選擇照明方式和波長提高低對比度標(biāo)記的可見度，還能自動(dòng)檢測基板伸縮導(dǎo)致的圖案變化并調(diào)整投影倍率，最大調(diào)整范圍為 ±0.1%，在沒有特定對準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)，也可通過圖像識(shí)別對各種布線圖案進(jìn)行對準(zhǔn)，另外還有多種對準(zhǔn)算法可供選擇以適應(yīng)不同類型的對準(zhǔn)標(biāo)記。

掩模損傷小：投影曝光方式無需掩模與工件接觸，可避免掩模損傷，同時(shí)，自動(dòng)掩模傳輸功能有助于減少因人為失誤導(dǎo)致的掩模損壞或工作類型錯(cuò)誤，并且能夠在掩模盒中移動(dòng)和安裝掩模，防止顆粒附著。

高均勻性照明：照明光學(xué)系統(tǒng)能有效集中光源發(fā)出的光，以高度均勻、高平行的方式照射掩模，通過在鏡面上實(shí)施特殊涂裝，可選擇曝光波長并阻隔熱線。

多種曝光方式支持：有多種高精度傳輸系統(tǒng)可適應(yīng)不同工件，如硅晶圓、柔性基板和印刷電路板等，還具備可進(jìn)行批量曝光的大面積曝光場以及適用于更大工作區(qū)域的步進(jìn) - 重復(fù)曝光臺(tái)，以支持各種曝光需求，實(shí)現(xiàn)高效穩(wěn)定的處理。

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