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中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU20N18X 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
中村供應：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU100P/H 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
現貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU180P/H 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
現貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU300P/H 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
現貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU600P/H 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
現貨庫存：KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU1218P/H 無油干式設計：采用無潤滑油機械結構，可避免介質污染，適用于超潔凈工藝環境，如半導體晶圓制造等。
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