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TOPCON/日本拓普康亮度色度均勻性測量器UA-20CT 拓普康亮度色度均勻性測量器是一系列用于精確測量光的亮度和色度均勻性的儀器，以下為你介紹其常見型號及特點、工作原理、應用領域等方面的內容： 常見型號及特點 UA-20C 系列高像素成像：配備 2450 萬 CMOS 相機，有效像素達到 5328×4608，可實現高精細測量。
中村現貨：日本ORC光刻系統EDi系列EDi-8310 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村庫存：日本ORC光刻系統EDi系列EDi-8308 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
原裝新品：日本ORC光刻系統EDi系列EDi-5308 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
原裝新品：日本ORC臭氧發生器ARV-O3ME 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村到貨：日本ORC臭氧發生器ARV-O3MG 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
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